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存储和缓存设备

存储和缓存设备

Stocker(载具存储立库) OHB(空中缓存单元) NTB(近机台缓存单元) TS300 N2 Purge(净化系统) BWS(裸片晶圆存储立库) CDWX

Stocker(载具存储立库)

作为无尘室内的临时存储库,目的是调节生产设备流程结束到下一工序生产设备流程开始之间的时间差。

◼︎无尘存储立库【CDS350-M3】

· 提供高可靠性并缩短循环时间

· 提高易维护性

· 支持双堆垛机

· 支持由传输机构成的复杂端口配置

无尘存储立库

◼︎塔式存储立库【TW3】

· 跨楼层搬送

· 高速升降

· 短时间内完成安装

· 支持由传输机构成的复杂端口配置

无尘存储立库

OHB(空中缓存单元)

设置于轨道下方或者轨道侧方用于暂存FOUP的货架。OHT台车可随时存取FOUP。不同的台车分散于不同点位可以实现同时存取,搬送时间短,避免车流堵塞的发生。由于是空中存放,不需要占用地面空间,且可以减少Stocker的容量需求。

OHB

NTB(近机台缓存单元) Tool Station TS300

◼︎可在机台前加装FOUP缓存单元,有效应对生产瓶颈

高度方向重叠设置于制造设备LP上方的缓存装置。
只要是符合SEMI E15.1标准的设备,无论新产线还是现有产线均可安装Tool Station。
通过在最靠近生产设备的位置缓存载具 (FOUP) ,并为每台设备配备独立的移载装置,可缩短从取走已处理完毕的FOUP到供应下一个待处理FOUP的“FOUP更换时间”,从而提高检查时间较短的检查设备的运转率。

NTB(近机台缓存单元) Tool Station TS300

◼︎TS300

· 采用4列×3层缓存区(最大)进行临时存储

· 支持N2 Purge(选配)

· 维护时拆卸与重新安装非常简便,均可在10分钟内完成

TS300

◼︎TS300 系统规格

循环时间 15秒
存储数量 4〜12 FOUP
标准安装调试时间 360分钟
设备改造 较少(视设备结构而定)

N2 Purge(净化系统)

随着工艺不断微细化,工艺工序间的氧化、水分以及周围环境对品质造成的影响亟需采取相应对策,而N2 Purge就是一种可轻松应用于存储立库及缓存单元改造升级的解决方案。通过N2 Purge可放宽工艺工序间的时间限制,防止良率下降。

· 根据配方指示进行流量控制。(可远程设定)

· 拥有适配多家FOUP制造商的丰富业绩。

· 通过Pre-purge功能维持品质。

· 采用自制喷嘴实现高效Purge。(Purge效率达90%以上)

N2 Purge(净化系统)

BWS(裸片晶圆存储立库) CDWX

◼︎使用专用容器 (Cell) 高密度存储晶圆

CDWX是一种从FOUP中取出晶圆,并放入专用容器 (Cell) 进行高密度存储的系统。通过搬运机器人将晶圆逐片装入专用晶圆环,并以25片晶圆环为一个Cell单元存储于货架上。通过优化晶圆环形状,使存储时Cell内的晶圆间距缩小至约3.7mm,与晶圆搬送容器FOUP(晶圆间距=10mm)相比,可实现更高密度的存储。

使用专用容器 (Cell) 高密度存储晶圆

◼︎CDWX的特点

在向晶圆环装入或取出晶圆时,Cell会扩大晶圆环的上下间距,作业完成后再恢复原有间距,从而兼顾了搬运机器人的作业便利性与存储时的空间节省。

CDWX的特点

高密度存储

晶圆间距较FOUP减少约60%

高密度存储

高洁净度

在最小空间内实现理想的晶圆存储环境(无尘/Purge)

高洁净度

易维护性

设备运转期间仍可通过Exchange Port将晶圆Cell出库

易维护性

出库后的晶圆Cell可放入专用治具中,使用FOUP清洗机进行清洗

灵活的系统规格

◼︎CDWX 系统规格

占地面积 约 9.8 m²
存储片数 1,725-4,325片(最大可达20,825片)
设备尺寸 W:3,038 mm(最大可达10,200mm)
D:3,226 mm
H:3,150 mm(min) - 4,490 mm(max)  *含FFU